水素ガスの種類
一般に水素ガス吸引に使用される水素は電気分解により生成される H2（安定した分子）と
電磁誘導加熱により生成されるH-（ヒドリド：反応性に富む）の2種類に別けられます（※）。
H-（ヒドリド）は非常に反応性が高く、体内のヒドロキシルラジカルと選択的に反応すると考えられています。
巷の水素サロン、美容サロンで使用されている多くの水素発生装置は前者の電気分解方式です。
水素の安定性、反応性の点で大きく異なり、またその効用、目的に適した濃度も異なります。
水素吸引濃度について
水素分子濃度を４～５％にするとどうなるでしょう？
水素の発火点濃度（体積比）は４～７５％です。
爆発の可能性があり極めて危険です。
他著書に言及できませんが、４％を超える濃度設定は安全性の点で課題があります。
また、濃度の単位としてよくppmが使用されています。
換算する必要があります。
健康支援センター博多で使用する水素吸引濃度
当社の水素ガス発生装置ENEL-02 の水素濃度は凡そ1.2～2.4%の範囲です。
濃度は体積比の為、ひと呼吸に占める水素濃度も1.2～2.4%で、平均２％です。
厚労省先進医療 B 51「水素ガス吸引療法」と同じ濃度です。
この水素濃度は電磁誘導加熱方式の実績から最も効率が良いと考えられる数値でもあります。
（※）H2O臨界温度の約2倍、650～700°Cにて生成されます